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CO2
CO2
Carbon Dioxide
二氧化碳為無色、無味、無臭的氣體。
不可燃、不自燃、不助燃。
比空氣重,可使可燃物和空氣中的氧隔離,故CO2可用做滅火劑。
可應用於半導體Etching/Clean/Thin Film製程中。
NH3
NH3
Ammonia
氨為無色氣體,有強烈刺激氣味,極易溶於水。
具有腐蝕性等危險性質。
可以運用於半導體/面板/太陽能/LED等產業相關製程使用。
CF4
CF4
Carbon Tetrafluoride
四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。
它可用於電路板的製造,以及製造絕緣物質和半導體。
它是用作氣體蝕刻劑及電漿體蝕刻版。
SiF4
SiF4
Silicon Tetrafluoride
四氟化矽主要用途:光纖、層間絕緣膜、乾蝕刻劑、高性能光纖之製造原料、半導體製造用氣體。
N2O
N2O
Nitrous Oxide
一氧化二氮又稱笑氣,無色有甜味氣體。
是一種氧化劑,在一定條件下能支持燃燒,但在室溫下穩定,有輕微麻醉作用,為強溫室氣體,
應用於半導體CVD/Thin Film製程中。
NF3
NF3
Nitrogen Trifluoride
三氟化氮主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑。
SiH4
SiH4
Silane
矽甲烷在太陽能電池生產過程中不可或缺的材料,因為它是將矽分子附著於電池表面的最有效方式。
在高於400的環境下,矽甲烷分解成氣態矽和氫氣,氫氣燃燒後,剩下的就是純矽。
此外,矽甲烷氣可以說是無處不在,除了太陽能產業外,還有很多製造工廠需要用到矽甲烷,如平板顯示器、半導體、甚至鍍膜玻璃生產廠。
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